X荧光金属膜厚测厚仪

标准配置

开放式样品腔。 精密二维移动样品平台，探测器和X光管上下可动，实现三维移动。双激光定位装置。 铅玻璃屏蔽罩。 Si-Pin探测器。

信号检测电子电路。 高低压电源。 X光管。 高度传感器保护传感器 计算机及喷墨打印机

X荧光金属膜厚测厚仪性能特点

满足各种不同厚度样品以及不规则表面样品的测试需求 φ0.1mm的小孔准直器可以满足微小测试点的需求

高精度移动平台可定位测试点，重复定位精度小于0.005mm 采用高度定位激光，可自动定位测试高度 定位激光确定定位光斑，确保测试点与光斑对齐

鼠标可控制移动平台，鼠标点击的位置就是被测点 高分辨率探头使分析结果更加精准 良好的射线屏蔽作用测试口高度敏感性传感器保护

X荧光金属膜厚测厚仪技术指标

型号：XTD

元素分析范围从硫(S)到铀（U）。 一次可同时分析多24个元素，五层镀层。 分析检出限可达2ppm，薄可测试0.005μm。

分析含量一般为2ppm到99.9% 。 镀层厚度一般在50μm以内（每种材料有所不同）任意多个可选择的分析和识别模型。 相互独立的基体效应校正模型。

多变量非线性回收程序 多次测量重复性可达0.1% 长期工作稳定性可达0.1% 度适应范围为15℃至30℃。电源: 交流220V±5V,

建议配置交流净化稳压电源。 外观尺寸： 576(W)×495(D)×545(H) mm 样品室尺寸：500(W)×350(D)×140(H) mm

重量：90kg

应用领域

黄金，铂，银等贵金属和各种首饰的含量检测.

金属镀层的厚度测量, 电镀液和镀层含量的测定。主要用于贵金属加工和首饰加工行业；银行，首饰销售和检测机构；电镀行业。

X荧光金属膜厚测厚仪广泛应用于高压开关、表面处理、PCB线路板、电子连接器、五金卫浴等企业中。